Neste trabalho é estudado a deposição de filmes finos metálicos e refratários por magnetron sputtering utilizando-se tanto de uma fonte de como rf. Os ?pontos ótimos? de trabalho foramdeterminados em função da pressão na câmara de deposição e da potência das fontes para os seguintes materiais: Nb, Ti, Mo, W e Si, obtendo assim um treinamento na utilização da máquinade deposição ao mesmo tempo que preparando-a para futuros usuários. Especial atenção é dada à deposição e caracterização de filmes finos de Nb com espessura entre 300 Å e 10000 Å. Ascaracterísticas supercondutoras destes filmes são analisadas através de medidas de susceptibilidade ac, magnetização dc e da razão de resistência. O diagrama de fase campo magnético ? temperatura (H-T), obtido de seqüências de esfriamento a campo nulo (ZFC) e em campo (FC), revela uma forte dependência da linha de irreversibilidade com a espessura do filme. Em filmes mais finos a região de irreversibilidade diminui. Este efeito é atribuído a danossuperficiais causados por tensões ou por defeitos