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Three-dimensional deposition of TiN film using low frequency (50 Hz) plasma chemical vapor deposition
Shimozuma, M.
Date, H.
Iwasaki, T.
Tagashira, H.
Yoshino, M.
Yoshida, K.
??, ??
Location:
http://hdl.handle.net/2115/5732
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 15(4), 1997, 1897-1901
http://dx.doi.org/10.1116/1.580657
??????????Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1997.Nov, 15(6), p3170????
Belongs to: Hokkaido University Collection of Scholarly and Academic Papers
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Detalles del recurso
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Three-dimensional deposition of TiN film using low frequency (50 Hz) plasma chemical vapor deposition
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| Id. |
5709745 |
| Idioma |
inglés
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| Titulo |
Three-dimensional deposition of TiN film using low frequency (50 Hz) plasma chemical vapor deposition |
| Autor(es) |
Shimozuma, M.
Date, H.
Iwasaki, T.
Tagashira, H.
Yoshino, M.
Yoshida, K.
??, ??
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| Location |
http://hdl.handle.net/2115/5732
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 15(4), 1997, 1897-1901
http://dx.doi.org/10.1116/1.580657
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| Versión |
1.0 |
| Estado |
Final
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| Descripción |
??????????Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 1997.Nov, 15(6), p3170????
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| Tipo |
363314 bytes
28149 bytes
application/pdf
application/pdf
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| Palabras clave |
427.6
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| Tipo de recurso |
article
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| Tipo de Interactividad |
Expositivo
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| Nivel de Interactividad |
muy bajo
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| Audiencia |
Estudiante
Profesor
Autor
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| Estructura |
Atomic |
| Coste |
no
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| Copyright |
sí
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| Formatos |
363314 bytes
28149 bytes
application/pdf
application/pdf
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| Requerimientos técnicos |
Browser: Any
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| Fecha de contribución |
26-oct-2007 |
| Contacto |
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